特徴は以下の通りです：

1. 優れた光安定性 半導体製造プロセスにおいて必要な均一で安定した光を提供し、製品の品質を向上させます。

2. 高耐久性と長寿命設計 高温や過酷な環境下でも耐えられる設計で、交換の頻度を減らしコスト削減に貢献します。

3. 精密な温度管理 安定した熱特性を持ち、製造工程全体の効率を最適化します。

4. 環境への配慮 エネルギー効率を高めた設計により、環境への負荷を軽減します。

5. 多様な用途に対応 様々な半導体装置やプロセスに適応する汎用性を備えています。

応用：

Equipment Applications:

• ●CVD Chemical Vapor Deposit

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• ●Polysilicon Deposition

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• ●Epitaxy / Epitaxial Processing

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• ●RTP Rapid Thermal Process

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• ●Oxidation

• ●Ion Implant Annealing